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氧化物单晶生长炉

主要应用于半导体磷化铟、磷化镓等材料的单晶生长。是制造II-VI族和III-V族化合物半导体材料的关键设备

VTM碲化镉单晶体生长炉

碲锌镉单晶炉是依据我公司自主研发的VTM工艺方法所设计的新型单晶工艺设备, 设备由加热系统、运动系统支撑机构、电控系统四部分组成,适用碲锌镉、碲化镉、锑化镓等多种化合物半导材料的单晶生长。
氧化物单晶生长炉
VTM碲化镉单晶体生长炉
氧化物单晶生长炉 VTM碲化镉单晶体生长炉